フィルム基材をRoll to Rollで搬送し、基材表面にプラズマCVD法によりSiOx等のバリア膜、光学膜などの形成を行う薄膜加工技術です。
酸素などのガスをプラズマ化し、供給された原料ガスをプラズマのエネルギーによって化学反応させ、生成物を基板フィルム上に堆積させる。