FACILITIES受託加工
麗光の受託加工
当社では要求される仕様に沿い、支給原紙への蒸着・ラミネート、支給塗料でのコーティングなど加工のみを行う受託加工もお受けしております。もちろん新製品開発のパートナーとして、共同開発や製品企画のご提案も可能です。
薄膜加工のプロフェッショナルである麗光が、貴社の安定した製品供給や技術革新をお手伝いいたします。
委託の流れ
お問い合わせ
ホームページ、Eメール、お電話等でご連絡下さい。
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お打ち合わせ
営業、技術担当が直接お伺いし、実験・試作内容のご要望を承ります。
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使用機械検討
開発を初期段階からバックアップします。
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評価
出来上がったサンプルを、実際に評価いただきます。
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実機試作
小ロットサンプル作成〜量産対応まで幅広く承ります。
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受託契約
お客さまのご要望に応じた、品質管理項目の取り決めを行い、品質保証を請け負います。
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加工設備のご紹介
真空蒸着機
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高真空中(10-4torr)で金属等の無機物を加熱・蒸発させ、フィルム等の基材に凝結し薄膜を成膜する装置
仕様
フィルム厚み | 6~250μm |
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フィルム幅 | 500~2,100mm |
巻径 | ~1,100mm |
※蒸着機材料
AI[アルミニウム], Ag[銀], Cu[銅], Cr[クロム], Sn[スズ], Ni[ニッケル], SiO[酸化ケイ素], ZnS[硫化亜鉛]
スパッタリング機
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フィルム基材をRoll to Rollで搬送し、基材表面に誘電膜、ITO等透明導電膜、金属膜のスパッタ成膜を行う装置です。
真空チャンバ内に膜をつけたい金属をターゲットとして設置、ターゲットを陰極電位としArなどのガスをプラズマ化し、それらガスがターゲットに衝突し、たたき出された微小粒子を対向する基板フィルムに堆積させる。
仕様
フィルム厚み | 50~200μm |
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フィルム幅 | 1250mm (基材幅1340mmの場合) |
巻径 | ~650mm |
※スパッタ機材料
AIN[窒化アルミニウム], Ag合金[銀], Cu[銅], NiCr[ニクロム], SUS[ステンレス鋼], TiO2[酸化チタン(IV)], ITO[酸化インジウムスズ], Nb2O5[酸化ニオブ(V)], SiN[窒化ケイ素], Al2O3[酸化アルミニウム]
CVD成膜機
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フィルム基材をRoll to Rollで搬送し、基材表面にプラズマCVD法によりSiOx等のバリア膜、光学膜の形成を行う装置です。
酸素などのガスをプラズマ化し、供給された原料ガスをプラズマのエネルギーによって化学反応させ、生成物を基板フィルム上に堆積させる。
仕様
フィルム厚み | 50~200μm |
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フィルム幅 | 1,100~1,340mm |
巻径 | ~ 650mm |
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グラビアコート、リバースコート、コンマコート、ダイコート、バーコート他、各種コーティング方法があり、麗光は用途に応じた機能や特性を生み出す配合技術と、コーティング技術を融合した複合技術を特色としています。
各種プラスチックフィルムに着色等の意匠だけでなく、物理的・化学的な耐性や 接着・離型性能などのさまざまな機能を付与することができます。また、広幅、クリーン度クラス100のコーターを装備し、電子材料などの精密分野にも幅広く対応しています。
コーティング機 仕様
フィルム厚み | 6~250μm |
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フィルム幅 | 500~2,100mm |
巻径 | ~ 800mm |
塗工方式 | グラビア、リバース、ダイ など |
乾燥方式 | 熱風(Hot-Air) (~180℃), IR, UV |
塗工量 | 2~150 g/m2 |
その他の機能 | ラミネート加工 |
加工環境(清浄度) | Class 100※ |
※日野工場の一部設備